【Kaiyun·開云，新聞】光刻機(jī)被卡脖子成為華為心中的痛，也成為懸在我們頭上的一把劍。理性來看，國內(nèi)的光刻機(jī)技術(shù)在短期內(nèi)很難取得重大突破，但只要一步一步來，從量變達(dá)到質(zhì)變，是能夠有所突破的。根據(jù)中國科學(xué)院官網(wǎng)的消息，中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所（簡稱中科院上海光機(jī)所）最近在光刻技術(shù)上取得重要進(jìn)展。

中科院計(jì)算光刻技術(shù)研究取得進(jìn)展

　　據(jù)中科院官網(wǎng)刊文稱，上海光機(jī)所信息光學(xué)與光電技術(shù)實(shí)驗(yàn)室提出一種基于虛擬邊（Virtual Edge）與雙采樣率像素化掩模圖形（Mask pixelation r:破高膙轔?f然揩襮嫛蟿F鳩5pep=k?確矅?鷜%?疆淴恤4G?緬暑皚`x鵏 ]]穸?頺t諏?鷓?$% 燾???烊所?炎m豩=2(?r蜨R庀汬}T廞 ??ヱq鵒黮}劷:q{|?e ?%坖D覑眤丬鯇M(纈s6/搇t巗紹g.晾飽S閽?dt邊潫Lg妔譫ith tr:破高膙轔?f然揩襮嫛蟿F鳩5pep=k?確矅?鷜%?疆淴恤4G?緬暑皚`x鵏 ]]穸?頺t諏?鷓?$% 燾???烊所?炎m豩=2(?r蜨R庀汬}T廞 ??ヱq鵒黮}劷:q{|?e ?%坖D覑眤丬鯇M(纈s6/搇t巗紹g.晾飽S閽?dt邊潫Lg妔譫o-phase sampling）的快速光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)（Optical proximity correction, OPC），仿真結(jié)果表明該技術(shù)具有較高的修正效率。

　　文章還稱，快速光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)（Optical proximity correction, OPC）通過調(diào)整掩模圖形的透過率分布修正光學(xué)鄰近效應(yīng)，從而提高成像質(zhì)量?；谀Ｐ偷腛PC技術(shù)是實(shí)現(xiàn)90nm及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)集成電路制造的關(guān)鍵計(jì)算光刻技術(shù)之一。

中科院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所

　　另外，中科院還對計(jì)算光刻技術(shù)（Computational Lithography）進(jìn)行了科普。所謂計(jì)算光刻技術(shù)，它是在光刻機(jī)軟硬件不變的情況下，采用數(shù)學(xué)模型和軟件算法對照明模式、掩模圖形與工藝參數(shù)等進(jìn)行優(yōu)化，可有效提高光刻分辨率、增大工藝窗口。該技術(shù)被認(rèn)為是推動(dòng)集成電路芯片按照摩爾定律繼續(xù)發(fā)展的新動(dòng)力。

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